昨夜今晨:苹果CEO库克发生新冠病毒暴露 一加新logo曝光

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2020年3月17日 驱动中国昨夜今晨

苹果CEO蒂姆·库克发生新冠病毒暴露

据cnBeta报道，环球音乐公司首席执行官Lucian Grainge对冠状病毒进行了测试，结果呈阳性，这意味着蒂姆·库克和苹果副总裁埃迪·库伊在参加他的60岁生日聚会后可能已经暴露在病毒环境中。蒂姆·库克和埃迪·库伊16天前参加了首席执行官的聚会。

目前，尚不知道蒂姆·库克和埃迪·库伊是否已通进行了新型冠状病毒测试。

有争议的聚会在拉昆塔的麦迪逊俱乐部举行，该俱乐部目前已因新型冠状病毒疫情而关闭，包括会所和高尔夫球场。在得知Lucian Grainge COVID-19检测呈阳性后，UMG圣塔莫尼卡也被关闭。所有工作人员都被命令尽快有秩序地离开大楼。

一位知情人士说，在宣布这一消息之前，许多工作人员已经开始在家工作。据知情人士透露，Lucian Grainge目前正在洛杉矶的UCLA医疗中心接受治疗。

一加新Logo曝光：带来全新品牌视觉

据快科技报道，3月16日一加创始人兼首席执行官刘作虎宣布，一加近期会上线全新品牌视觉系统（VI）。从2013年创立至今，一加坚持和全球用户共同雕琢产品，分享变得更棒的点子，因此才有了一加。不过已经有外媒提前曝光了一加全新Logo和字体，包括红色版Logo与黑色版Logo以及印度会员计划Red Cable Club的Logo。

从曝光的图片上看，新Logo有微调，字体也并不相同，不过总的来说，曝光的全新Logo字体与原先设计差别不大。值得一提的是，早在一加7T的宣传物料上，一加就已经启用了类似的设计。

这套全新的视觉系统将于3月18日正式亮相，这也意味着新机距离发布不远了。

视觉识别系统（VI）是运用系统的、统一的视觉符号系统，是塑造独特企业形象的重要工具，分为基本要素系统和应用要素系统两方面。

基本要素系统主要包括：企业名称、企业标志、标准字、标准色、象征图案、宣传口语、市场行销报告书等。

应用系统主要包括：办公事务用品、生产设备、建筑环境、产品包装、广告媒体、交通工具、衣着制服、旗帜、招牌、标识牌、橱窗、陈列展示等。

美国卫生部网络系统遭受黑客攻击

据新浪网报道，北京时间3月16日消息，三位知情人士透露，在美国应对冠状病毒大流行之际，美国卫生与公众服务部（HHS）的计算机系统周日晚遭到网络攻击。知情人士表示，这次攻击似乎是在旨在减慢HHS计算机系统的运行速度，但并没有造成系统大幅放慢。

知情人士说，黑客似乎没有从系统中获取任何数据。HHS官员认为这是其他国家黑客的敌意行动，但目前尚无确切证据。

HHS没有立即回应置评请求。白宫和国家安全委员会没有立即回应置评请求。

荷兰ASML研发下一代EUV光刻机：分辨率提升70% 逼近1nm极限

据快科技报道，在EUV光刻机方面，荷兰ASML（阿斯麦）公司垄断了目前的EUV光刻机，去年出货26台，创造了新纪录。据报道，ASML公司正在研发新一代EUV光刻机，预计在2022年开始出货。根据ASML之前的报告，去年他们出货了26台EUV光刻机，预计2020年交付35台EUV光刻机，2021年则会达到45台到50台的交付量，是2019年的两倍左右。

目前ASML出货的光刻机主要是NXE:3400B及改进型的NXE:3400C，两者基本结构相同，但NXE:3400C采用模块化设计，维护更加便捷，平均维修时间将从48小时缩短到8-10小时，支持7nm、5nm。

此外，NXE:3400C的产能也从之前的125WPH（每小时处理晶圆数）提升到了175WPH。

不论NXE:3400B还是NXE:3400C，目前的EUV光刻机还是第一代，主要特点是物镜系统的NA（数值孔径）为0.33。

ASML最近纰漏他们还在研发新一代EUV光刻机EXE:5000系列，NA指标达到了0.55，主要合作伙伴是卡尔蔡司、IMEC比利时微电子中心。

与之前的光刻机相比，新一代光刻机意味着分辨率提升了70%左右，可以进一步提升光刻机的精度，毕竟ASML之前的目标是瞄准了2nm甚至极限的1nm工艺的。

不过新一代EUV光刻机还有点早，至少到2022年才能出货，大规模出货要到2024年甚至2025年，届时台积电、三星等公司确实要考虑3nm以下的制程工艺了。